讲座题目：液桥限域微加工技术及在半导体单晶阵列制造中的应用
主讲人：杨俊川研究员
讲座时间：2026年7月2日 10：00
讲座地点：西南交通大学九里3号教学楼3324会议室
主讲人简介：
杨俊川，博士，中国科学技术大学苏州高等研究院研究员，2017年于华中科技大学获得博士学位（导师：杨光教授），期间在中国科学院国家纳米科学中心联合培养（导师：蒋兴宇研究员）；2018—2020年在北京航空航天大学从事博士后研究工作（合作导师：江雷院士）。2020~2023年在中国科学院理化技术研究所任特别研究助理。2023年加入中国科学技术大学苏州高等研究院，任研究员。长期从事仿生界面调控功能材料组装与微电子器件领域研究，已在Nat. Commun.、J. Am. Chem. Soc.、Adv. Funct. Mater.、Acs Nano等高水平期刊发表论文 30余篇，申请专利11项目，已授权5项。系列工作在领域内形成持续影响并受到国际同行关注。
讲座内容：光电集成是后摩尔时代信息技术发展的重要方向，而新型有机、无机及低维半导体材料为高性能光电子器件提供了丰富的材料体系。针对此类材料难以兼容传统微电子制造工艺困难，报告人提出了液桥限域组装新方法并系统开展限域微流体输运与结晶动力学耦合调控研究。报告将重点介绍液桥限域微加工技术的发展及其在半导体单晶阵列制造中的应用，包括限域流体场调控有序成核与取向生长机制、液相异质集成制造策略，以及高性能光电器件与集成化微电子器件构筑。相关研究建立了多组分半导体异质集成的调控原理与液相制造体系，为新型光电器件高密度集成和先进光电子制造提供了新的技术方案。
